International Standard
ISO 21466:2019
Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
Reference number
ISO 21466:2019
Edición 1
2019-12
© ISO 2024
International Standard
Vista previa
No disponible en español
Publicado (Edición 1, 2019)

ISO 21466:2019

Formato
Idioma
CHF 173
Convertir Franco suizo (CHF) a tu moneda

Resumen

This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.

Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2019-12
    Etapa
    : Norma Internacional publicada [60.60]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 47
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 202/SC 4
    ICS :
    37.020 
  • RSS actualizaciones

Ciclo de vida

Got a question?

Check out our FAQs

Customer care
+41 22 749 08 88

Opening hours:
Monday to Friday - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Tienda
  3. Standards catalogue
  4. ICS
  5. 37
  6. 37.020
  7. ISO 21466:2019